Høy renhet 99,95 % Tungsten Sputtering Target
Høy renhet 99,95 % Tungsten Sputtering Target

Høy renhet 99,95 % Tungsten Sputtering Target

Sputtering er en ny type Physical Vapor Deposition (PVD) metode. Sputtering er mye brukt i: flatskjermer, glassindustri (inkludert arkitektonisk glass, bilglass, optisk filmglass), solceller, overflateteknikk, opptaksmedier, mikroelektronikk, billys og dekorativt belegg, etc.
Sende bookingforespørsel
Produktbeskrivelse

 

Sputtering er en ny type Physical Vapor Deposition (PVD) metode. Sputtering er mye brukt i: flatskjermer, glassindustri (inkludert arkitektonisk glass, bilglass, optisk filmglass), solceller, overflateteknikk, opptaksmedier, mikroelektronikk, billys og dekorativt belegg, etc.

 

Type og størrelse

 

Produktnavn

Tungsten(W-1)sprutmål

Tilgjengelig renhet (%)

99.95%

Form:

Plate, rund, roterende

Størrelse

OEM størrelse

Smeltepunkt(grad)

3407( grad )

Atomvolum

9,53 cm³/mol

Tetthet (g/cm³)

19,35 g/cm³

Temperaturkoeffisient for motstand

0.00482 I/grad

Sublimasjonsvarme

847,8 kJ/mol (25 grader)

Latent smeltevarme

40,13±6,67 kJ/mol

overflatetilstand

Polsk eller alkalisk vask

Applikasjon:

Luftfart, smelting av sjeldne jordarter, elektrisk lyskilde, kjemisk utstyr, medisinsk utstyr, metallurgisk maskineri, smelteutstyr, petroleum, etc.

 

Egenskaper

 

(1) Glatt overflate uten porer, riper og annen ufullkommenhet

(2) Slipe- eller dreiekant, ingen skjæremerker

(3) Uslåelig lerel av materiell renhet

(4) Høy duktilitet

(5) Homogen mikrotrukaltur

(6) Lasermerking for din spesielle vare med navn, merke, renhetsstørrelse og så videre

(7) Hvert stykke sputtermål fra pulvermaterialets vare og nummer, blandearbeidere, utgass og HIP-tid, maskineringsperson og pakkedetaljene er alle laget selv.

 

applikasjoner

 

1. En viktig måte å lage tynnfilmmateriale på er sputtering - en ny måte for fysisk dampavsetning (PVD). Den tynne filmen laget av mål er preget av høy tetthet og god klebeevne. Ettersom magnetronforstøvningsteknikkene brukes i stor utstrekning, er det et stort behov for mål for høyrent metall og legering. Med høyt smeltepunkt, elastisitet, lav termisk ekspansjonskoeffisient, resistivitet og fin varmestabilitet, er rene wolfram- og wolframlegeringsmål mye brukt i integrert halvlederkrets, todimensjonal skjerm, solcelle, røntgenrør og overflateteknikk.

2. Den kan fungere med både eldre forstøvningsapparater så vel som det nyeste prosessutstyret, for eksempel belegg for store områder for solenergi eller brenselceller og flip-chip-applikasjoner.

 

Populære tags: høy renhet 99,95% wolframforstøvningsmål, Kina høy renhet 99,95% wolframsprutmålleverandører, fabrikk