PVD beleggmateriale
-
![4N ZrO2 sprutmål med Cu-bakplate]()
4N ZrO2 sprutmål med Cu-bakplateVåre zirkoniumdioksid-forstøvningsmål med støtteplater er produsert ved hjelp av høy-renhet zirkoniumdioksidmateriale, sikkert festet til en metallstøtteplate; denne designen sikrer rask...Mer -
![ZrC sprutmål med Cu-bakplate]()
ZrC sprutmål med Cu-bakplateVåre zirkoniumkarbidmål (ZrC) sputtering med kobberstøtteplater har en robust binding mellom ZrC-målmaterialet med høy -renhet og kobberunderlaget. Denne designen sikrer utmerket termisk og...Mer -
![Ta 5at % dopet ZrC sputteringsmål]()
Ta 5at % dopet ZrC sputteringsmålNøyaktig doping av zirkoniumkarbid med et forhold på 5 atomprosent av tantal forbedrer målmaterialets høye-temperaturmotstand, termiske sjokkbestandighet og korrosjonsmotstand betraktelig. Med høy...Mer -
![4N IGZO sprutmål]()
4N IGZO sprutmålVåre 4N IGZO sprutmål gir mer stabil og effektiv sprutytelse. Spesialiserte for high-skjerm- og halvlederapplikasjoner, letter realiseringen av overlegen elektronmobilitet og bildeklarhet.Mer -
![4N HfO2-mål med Cu-bakplate]()
4N HfO2-mål med Cu-bakplate4N HfO₂-sputteringsmålet med kobberbakside bruker 99,99 % renhet hafniumoksidmateriale. Integrert med en kobberbakside gir den utmerket termisk ledningsevne og er ideell for optisk belegg,...Mer -
![4N HfO2 dopet med 2 % Ti-mål]()
4N HfO2 dopet med 2 % Ti-målDet 2 % Ti-dopede HfO₂-sputtermålet er fremstilt ved å bruke et hafniumoksidsubstrat med høy-renhet, nøyaktig dopet med 2 % titan. Karakterisert av dens komposisjonsmessige ensartethet og høye...Mer -
![4N HfO2-sprutmål]()
4N HfO2-sprutmål4N High-Renhet Hafnium Dioxide Sputtering Target (99,99 % renhet) – egnet for bruk i optiske belegg, halvledere og presisjonselektronikk. Har høy tetthet, jevn sammensetning og stabil sputterytelse.Mer -
![Tilpassbart 4N karbonsprutmål]()
Tilpassbart 4N karbonsprutmålVåre 4N karbonforstøvningsmål med høy- renhet er laget av 99,99 % rent karbonmateriale, med lave urenhetsnivåer og gjør dem ideelle for bruk i halvledere, optiske tynne filmer og belegg for...Mer -
![B4C sputteringsmål]()
B4C sputteringsmålVed å bruke høy-borkarbidråmaterialer har dette produktet eksepsjonell hardhet og robust termisk stabilitet, noe som gjør det ideelt for applikasjoner innen halvlederproduksjon, optiske belegg og...Mer -
![Egendefinerte borsprutmål]()
Egendefinerte borsprutmålVi tilbyr høy-tette bormål som er perfekt egnet for halvleder- og belegningsprosesser. Vi støtter skreddersydd fabrikasjon basert på tekniske tegninger, og kontrollerer strengt urenhetsnivåer for...Mer -
![Tilpasset 3N5 Round Tungsten Target]()
Tilpasset 3N5 Round Tungsten TargetVi tilbyr skreddersydde-sirkulære wolframmål med 3N5-renhet (99,95 %). Produsert ved hjelp av pulvermetallurgi, har de en jevn mikrostruktur, høy tetthet og er fri for porøsitet og urenheter. De...Mer -
![Tilpasset Hf-forstøvningsmål med høy renhet]()
Tilpasset Hf-forstøvningsmål med høy renhetVi tilbyr skreddersydde-høg-forstøvningsmål for hafnium med en renhet på over 99,9 %, med jevn tetthet og fin mikrostruktur. Spesielt designet for halvlederbrikker, optiske belegg og...Mer
Vi er profesjonelle leverandører av pvd-beleggmaterialer i Kina, spesialisert på å tilby tilpasset service av høy kvalitet. Vi ønsker deg hjertelig velkommen til å kjøpe rabatt pvd-beleggmateriale på lager her og få gratis prøve fra fabrikken vår. For priskonsultasjon, kontakt oss.