Beskrivelse av 4N HfO2-sputteringsmål
Hafniumdioksidmålmateriale er et funksjonelt materiale som består av hafniumdioksid med høy -renhet (HfO₂), primært brukt i tynnfilmavsetningsprosesser som fysisk dampavsetning (PVD) og magnetronforstøvning. Dens kjerneegenskaper inkluderer et høyt smeltepunkt, utmerket kjemisk stabilitet, overlegne elektriske isolasjonsegenskaper og optisk gjennomsiktighet innenfor bestemte bølgelengdeområder. Høy renhet er grunnleggende for å sikre jevnheten til avsatte filmer, deres optiske ytelse og enhetens pålitelighet, ettersom urenheter kan føre til filmdefekter. Stabiliteten til målmaterialets kvalitet korrelerer direkte med reproduserbarheten til avsetningsprosessen og utbyttet av sluttproduktet. Med den kontinuerlige utviklingen av halvleder-, optoelektroniske og avanserte produksjonsteknologier øker etterspørselen etter hafniumdioksyd-mål med høye-ytelse jevnt, og gir brede markedsutsikter.
Anvendelser av 4N HfO2-sputteringsmål
Halvlederproduksjon: Som et materiale med høy-dielektrisk-konstant (høy-k) brukes det i produksjonen av avanserte transistorportisolatorer, noe som bidrar til forbedret enhetsytelse og miniatyrisering.
Optoelektroniske enheter: På grunn av sine eksepsjonelle optiske egenskaper-som høy brytningsindeks og lavt absorpsjonstap-brukes den mye i optiske belegg for produksjon av anti-reflekterende lag, optiske filtre, laserkomponenter og optiske filmer med høy-ytelse.
Spesialkeramikk og belegg: Ved å utnytte sin høye hardhet og slitestyrke tjener den til produksjon av avanserte keramiske materialer samt beskyttende belegg som tåler høye temperaturer og korrosjon.
Frontier Research: I nye felt som kvanteberegning viser hafniumdioksid potensiale for bruk som et dielektrisk materiale for qubits.
Spesifikasjoner for 4N HfO2-sprutmål
Renhet: 99,9 %, 99,99 %;
Produksjonsmetode: varmpresssintring
Tilgjengelige dimensjoner:
Sirkulær: Diameter mindre enn eller lik 14 tommer, tykkelse større enn eller lik 3 mm;
Rektangulær: Lengde mindre enn eller lik 14 tommer, bredde mindre enn eller lik 10 tommer, tykkelse større enn eller lik 3 mm.
Type binding: Indium
Kvalitetskontroll og testing av 4N HfO2-sputteringsmål
Vanlige spørsmål for 4N HfO2-sprutmål
Er du en fabrikk eller aprodusent?
A: Ja, vi er en 4N HfO2 Sputtering Target-fabrikk, men vi bruker vanligvis vårt handelsselskap til å håndtere virksomheten i utlandet. Det vil være mer praktisk å motta remitteringen og ordne forsendelsen.
Hva er leveringsmåten?
A: Vanligvis sender vi 4N HfO2 Sputtering Target med UPS, DHL eller FedEx. Vi kan også sende sjøveien til en havneby eller med fly til nærmeste flyplass.
Hvorfor er 4N HfO2-sputteringsmålet ditt så kostnadseffektivt-?
A: Vi kutter ut mellomleddene til slutt-for å-avslutte produksjonsprosessen, og vi henter råstoff direkte fra kilden.
Gjør du punktkvalitetskontroll avprodukter?
A: 100% full inspeksjon for sikker. Alle ukvalifiserte 4N HfO2-sputteringsmål kastes.
Hvordan sikrer du ledetiden din?
A: Fra materialforberedelse til maskinering og til slutt til full inspeksjon. Hvert trinn i produksjonen er strengt overvåket og kontrollert for å gi deg en nøyaktig leveringstid.
Hva er MOQ for 4N HfO2 Sputtering Target?
A: Avhenger av mengden 4N HfO2 Sputtering Target; generelt ingen MOQ-grense.
Hvordan betale forproduktene?
A: En bankoverføring (T/T) vil være akseptabelt.
Hva er leveringstiden?
A: Rundt 7-20 dager, som avhenger av mengden og produksjonen av 4N HfO2 Sputtering Target.
Hva slags pakke er det?
A: Vanligvis bruker vi en kartongboks eller kryssfinerboks med beskyttende materiale inni for å sikre sikkerheten til 4N HfO2 Sputtering Target.
Hva er ledetiden?
A: Fra bestillingen er lagt inn til mottak av last vil ta rundt 10-25 dager.
Populære tags: 4n hfo2 sputtering target, Kina 4n hfo2 sputtering target leverandører, fabrikk
