Produktbeskrivelse

Yitech produserer Titanium Aluminium Sputtering Targets ved den avanserte varme isostatiske presseprosessen. Disse brukes ofte i maskinvareverktøybelegg, dekorativt belegg, halvlederkomponenter og flatskjermbelegg. Årsaken til denne bruken er høy duktilitet (lang levetid), høy varmeledningsevne og homogen mikrostruktur.

Titanium Aluminium Sputtering Targets Informasjon

Renhet: 99.5-99,9 %;
Sirkulær: Diameter<= 1500 mm x 500 mm;
Rotary: Lengde<=2000 mm, Thickness: <=15 mm;
Targets Type: Planar sputtering-mål, roterende sputtering-mål.

Analyse av titan-aluminium-forstøvningsmål

Titanium aluminium sputtering mål	Egenskaper	Egenskaper	Egenskaper
Sammensetning (at%)	Ti33Al67	Ti50Al50	Ti70Al30
Renhet	99.80%	99.80%	99.80%
Tetthet g/cm³	3.29	3.6	3.95
Kornstørrelse (um)	Mindre enn eller lik 100	Mindre enn eller lik 100	Mindre enn eller lik 100
Termisk ledningsevne (W/mk)	98	70	40
Koeffisient for termisk ekspansjon (K)	1.9 x 10-5	1.75 x 10-5	1.35 x 10-5

Mer informasjon om titan-aluminium-forstøvningsmål

applikasjoner

• Dekorativt belegg
• Belegg på maskinvareverktøy
• Halvleder
• Flatskjermer

Produksjonsprosess

• Pulverpreparering
• Varm isostatisk pressing
• Analyse: Kornforedling, gløding, mikrografering, maskinering
• Rengjøring og sluttemballasje - Rengjøres for bruk i vakuum

Egenskaper

• Konkurransedyktige priser
• Høy renhet
• Kornraffinert, konstruert mikrostruktur

• 99,5 % minimumsrenhet
• Tilpassede sammensetninger av TiAl-mål tilgjengelig (Al: 10at%-90at%)
• Mindre størrelser også tilgjengelig for FoU-applikasjoner
• Sputtering target bonding service

Populære tags: titan aluminium sputtering mål, Kina titan aluminium sputtering mål leverandører, fabrikk