Aluminium Titanium Alloy Sputtering Target

Aluminiums titanlegerings sputringsmål produseres vanligvis ved varm isostatisk pressingsprosess, som har mindre kornstørrelse og mer ensartet mikroskopisk indre struktur, noe som kan hjelpe kunder med å få tynnfilmbelegg med høy renhet og konstant erosjonshastighet.

Sende bookingforespørsel

Aluminiums titanlegerings sputringsmål levert av selskapet vårt har fordelene med høy kvalitet, høy renhet, ensartet struktur, lang levetid, god korrosjonsmotstand, høy termisk ledningsevne og konkurransedyktig pris.

Høykvalitets aluminiums titanlegerings sputtering mål er mye brukt i maskinvareverktøybelegg, dekorativt belegg, flat displaybelegg, PVD og CVD-prosessering, halvlederkomponenter og forskjellige sputteringsmaskiner og ionplateringsmaskiner.

Spesifikasjon av aluminiums titanlegerings sputtering mål

Karakter	Alti 25\/75, Alti 30\/70, Alti 40\/60, etc.
Teknikk	Varm isostatisk pressing, sintring, smiing, annealing
Renhet	99.5-99.9%
Type	Plan sputtering mål, roterende sputtering mål, ACR -katode.
Tykkelse	Tilpasset
Lengde	Tilpasset
Diameter	Tilpasset
Tetthet	3,4 g\/cm3
Form	Plater, plater, kolonne, trinn, rektangel, rør
Flate	Polert, alkali rengjøring, sliping, svart oksid, etc.